Sorry, this entry is only available in Japanese. For the sake of viewer convenience, the content is shown below in the alternative language. You may click the link to switch the active language.

「自分らしくあること」の大切さを改めて問いかける

クレイグ・コステロ(KR)個展「Thank you for letting me be myself again.」が、アニエスベー ギャラリー ブティックで2026年5月30日(土)から7月31日(金)まで開催される。コステロは2018年にアニエスベー渋谷店のファサード一面に作品を制作したアーティスト。今回は3年ぶりの来日となり、本展では新作シリーズが発表される。

adf-web-magazine-craig-costello-agnis-b

本展のタイトルにもなっている新作シリーズ《Thank you for letting me be myself again》は紙を支持体に、アクリルとエナメルが幾重にも積み重ねられた作品群。絵の具の堆積は紙そのものの厚みを凌駕するほどに達し、その表面にはすべての過程が刻印されるように重なる。本作はスタディ(習作)であると同時に、それ自体として完結した自律的オブジェクトでもある。

クレイグ・コステロ

クレイグ・コステロ(KRとしても知られる)は、ニューヨークを拠点に活動するアーティスト。その分野横断的な実践は、絵画、サイトスペシフィック・インスタレーション、写真に及ぶ。クリエイティブ・ディレクターとして、自身の制作活動とともに、画材ブランド兼クリエイティブ・スタジオであるKRINKのビジュアルやコンセプト全体も手がけている。

クレイグ・コステロ(KR)「Thank you for letting me be myself again.」開催概要

会期2026年5月30日(土)~7月31日(金)
時間12:00~19:00
会場アニエスベー ギャラリー ブティック
URLhttps://tinyurl.com/32w3thks